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ResistorPrecision Workbench

v0.27.0 안내 · 작업 흐름

GDS/OASIS → 회로도 역추출

마스크에서 소자·연결을 추출하고 지원 graph만 편집 회로로 적용합니다.

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학습 체크는 이 브라우저에만 저장합니다. 엔진의 PASS·실행·제조 판정과 관계없습니다.

시작 전에

따라 하기

  1. 파일·PDK에서 GDS/OASIS를 가져옵니다. 변환 탭에서 GDS → 회로도와 실제 top cell·PDK를 선택합니다.

  2. 실제 Magic 도형 추출을 실행합니다. 추출 SPICE의 model·port·W/L과 로그를 확인합니다.

  3. Netgen의 추출 graph ↔ 편집 graph 비교 결과를 확인합니다. parser equivalence와 원래 설계 LVS를 구분합니다.

  4. flat 편집 심볼과 도형 preview를 검토합니다. 지원 밖 모델·파라미터·포트가 있으면 적용이 차단됩니다.

  5. 적용 후 해석 설정에서 공급·입력·접지·바이어스를 지정합니다. 원래 설계에 대한 물리 검증은 별도입니다.

확인할 결과와 한계

막혔을 때

원문과 재현 자료

지원 범위·자세한 절차

다음 실습

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